EDI模塊如何清洗

來(lái)源:凱源水凈化解決方案提供商 | 作者:凱源工程師 | 發(fā)布時(shí)間: 2020-12-24 | 995 次瀏覽 | 分享到:

超純水設(shè)備中EDI模塊的進(jìn)水經(jīng)過(guò)預(yù)處理和反滲透系統(tǒng)在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機(jī)會(huì)，但是隨著設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展，EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞。遇到上述情況，必須對(duì)超純水設(shè)備中EDI模塊進(jìn)行清洗，使之恢復(fù)到原來(lái)的技術(shù)特性。

1、在線(xiàn)清洗：在線(xiàn)清洗就是指對(duì)反滲透系統(tǒng)總體開(kāi)展清洗，膜元器件無(wú)需取出高壓容器，一般在很大系統(tǒng)軟件中設(shè)計(jì)方案應(yīng)用。此清洗方法使用方便便捷，速度快，缺陷為清洗不完全，實(shí)際效果不理想化。

2、線(xiàn)下清洗：線(xiàn)下清洗就是指將超純水設(shè)備中EDI模塊從反滲透高壓容器中卸掉，裝進(jìn)專(zhuān)用型清洗機(jī)器設(shè)備中開(kāi)展清洗，此清洗方法使用方便便捷，清洗完全、實(shí)際效果*好。

超純水設(shè)備中EDI模塊清洗注意事項(xiàng)
1、需要清洗的設(shè)備管路必須是與其他連接設(shè)備的連接管路完全隔離的。

2、需要清洗的設(shè)備其電源必須是完全切斷并有“正在操作，不得送電”的安全警示。

3、整個(gè)清洗過(guò)程中清洗的工作壓力不能超過(guò) 0.15MPa。

4、嚴(yán)禁應(yīng)用甲苯或別的的有機(jī)溶劑。

5、維護(hù)安全性標(biāo)識(shí)。